Le panier est vide
F.O.X Air Base – une base pour gel polish qui remplit les couches superficielles endommagées de l'ongle, restaurant la structure de la plaque de l'ongle. Convient aux ongles mous et élastiques.
La composition du matériau inclut de la Wollastonite, utilisée pour la première fois dans l'industrie de l'ongle selon une technologie brevetée par TM F.O.X. La forme des molécules et les propriétés de ce matériau servent de charge micro-renforçante.
La base résout les problèmes des ongles endommagés et affaiblis.
Les capsules d'air de Wollastonite ne créent pas de pression supplémentaire et réduisent le risque de formation de fissures.
La base avec d'excellentes propriétés adhésives augmente l'élasticité et la résistance du revêtement, résiste aux variations de température.
Pratique à utiliser, préserve l'architecture de l'ongle, s'auto-nivelle et ne coule pas
sur les bourrelets latéraux. Elle a un niveau d'acidité équilibré, sans danger pour le contact avec la plaque de l'ongle.
Avant utilisation, bien mélanger pour que la Wollastonite se répartisse uniformément dans la base.
Avantages :
- Niveau d'acidité équilibré
- Basse température
- Prévient la formation de fissures
- Résistante et élastique
Technologie d'application :
Préparation standard de la plaque de l'ongle
1. Sur la surface de l'ongle limée, appliquer le dégraissant F.O.X Nail Prep;
2. Appliquer un primer pour une adhérence supplémentaire F.O.X Ultrabond non-acid ou F.O.X Acid Primer;
3. Mélanger le matériau avant application;
4. Appliquer la première couche d'amorce de la base par mouvements de frottement sur toute la surface de la plaque de l'ongle.
Polymériser dans une lampe LED/UV 36/48W — 30 secondes.
5. Appliquer une couche uniforme de F.O.X Air Base en nivelant la plaque de l'ongle.
Polymériser dans une lampe LED/UV 36/48W – 60 sec.
6. L'ongle est prêt à être recouvert de gel polish.
Dernière étape : appliquer de l'huile pour cuticules F.O.X Dry Cuticle Oil Oasis
Se retire à l'aide du produit F.O.X Gel Remover en 10 min ou à l'appareil.